原子力显微镜的基本原理
一个弹簧微米大小的悬臂在其自由端有一个锥形的尖端。锥形的尖端有一个非常锐
利的尖头,这个尖头通常不到10纳米,可以扫描近乎纳米距离的表面。
当尖头在表面移动的时候,锐利尖头上的原子及样品表面的原子之间的范德华力会
发生变化,从而使得悬臂产生垂直位移。
悬臂的垂直位移可以通过光学的方法进行检测。悬臂背面反射的激光束击中一个四
倍光电二极管。该二极管的输出信号与悬臂的垂直运动有关,而悬臂则反过来表征
出样品的表面形貌。
原子力显微镜的平面图像由像素点组成,扫描过程中,通过控制压电陶瓷的伸缩来驱动探针在样品表面扫描,记录材料平面坐标信息;通过压电陶瓷的伸缩量变化以及探针的振幅变化量探测并记录材料纵向的物理信息。扫描完每一个点,反馈回路将Z方向压电陶瓷的长度值及探针的振幅值调至预先设定的值,探针再移到下一点进行力接触,记录该点的物理信息。所有信息汇拢,组成一张原子力显微镜图像。如今,原子力显微镜已经成为纳米研究工作的主要工具。除了用于三维纳米成像,
原子力显微镜还可以用来测定纳米尺度范围下样品的各种性质。并且,它还可以用
于纳米操作和纳米级光刻。
原子力电子显微镜工作原理图
![便携式纳米级原子力显微镜 便携式纳米级原子力显微镜]()
上述特征以及BRISK 在生产过程中采用的最先
进的技术,使得我们可以为研究人员进行那纳米
研究生产绝佳的仪器。
Ara Research, 在生产纳米技术设备方面有着
20年的经验,今天我们在一款惊人的产品中展
示原子力显微镜复杂的功能模式。
![便携式纳米级原子力显微镜 便携式纳米级原子力显微镜]()
产品优势:
1.简化的纳米成像技术 :
简便的操作和纳米成像用时的缩短使得Brisk的 产品非常的用户友好。
2.开发的尖头固定程序 :
您可以在最短的時間内冷静地将尖端固定在 AFM頭中 。
3.高倍光学显微镜:
使用固定在机器上的一个强大的OM 进行选择扫 描点的初始成像 。
4.适用于所有类型的电脑 :
个人电脑、笔记本,一体机或其他任何类型的电 脑都可以与Brisk兼容。
5. 新一代控制器 :
采用最新先进的电子产品改进了控制器的功能
局域网特点
仅用一根网络电缆即可完成电脑与机器间的所有 数据传输。
6.快速的方法:
使用快速的方法来节省时间是Brisk的一个了不
起的特点。
7.出色的设计,小巧:
Brisk仅占用实验室很小的空间,它漂亮的外观
非常引人注目。
规格参数 |
扫描仪 | 电子器件 |
XY向扫描仪 | ADC and DAC 通路 |
XY 方向最大扫描范围是50μm | 4 Channel ADC 24bit |
XY向分辨率1nm | 4 Channel DAC 24bit |
Z向扫描仪 | 信号处理 |
Z向最大扫描范围是4μm | zynq 处理器频率40赫兹 |
Z向分辨率0.1nm | 综合功能 |
| 100 MB/sec 通过局域网 |
平台 | 软件 |
XY平台 | 数据获取 |
机动化软件控制 | 实时100MB/ 秒,样品和悬臂视觉集成光学视图窗口 |
行程15mm | 兼容微软 |
运动步距40nm | 高定额示波器监控所有系统信号 |
Z平台 | 在软件图库中自动保存抓取的图像,扫描捕获图像的 |
行程15mm | 缩放选择区域悬臂梁自动快速靠近样本表面(自动快速靠近) |
运动步距40nm |
|
悬臂与样品表面自动接合(自动快速接近) | 图像处理 |
| 用于图像处理、数据分析和展示的独立软件 |
样品组装 | 能够导出不同图像的数据 |
内置所有微软操作系统 |
样品最大直径20mm |
样品最大厚度10mm |
|
含光磁样品夹 |
|
样品的偏置电压范围-10V to +10 |
|
光学显微镜上视图 | 专用电脑配置 |
800万像素分辨率, 彩色 | 21.5”Display | Monitor |
光学变焦60X to 600X | Core i5-7200U CPU |
集成照明 | 8GB DDR4 RAM |
含显微镜调光器 | 2GB GeForce Graphic,1920*1080 Resolution |
磁头 | 原子力显微镜装置 |
高精度微调千分尺 | Plug and Play |
670 nm 激光频率 | 尺寸 |
5 mW 最大激光输出功率 | 300 mm×400 mm ×300 mm |
高等级四倍光电二极管 | 净重
|
混色机构 | 20 Kg |
优化的光路设计 |
弹簧杠杆尖头固定机构 |
选配/配件 | 多种悬臂类型可选 |
标准测试样品,样品安装套件,样品基质 | 更换尖头的工具包括真空笔,镊子,磁铁盒, |
磁头固定器 |
功能模式 |
标准版模式: 接触、非接触、分接、相位、横向力显微镜 |
高级版本模式: 磁力显微镜(MFM), 电力显微镜(EFM), 力光谱分析+各种标准模式 完整版模式: 化学和力学纳米光刻、力调变显微镜(FMM)+ 各种高级版本模式 |
全PLUS 版本模式: 开尔文探头力显微镜(KPFM), 导电原子力显微镜(C-AFM), 压电响应力显微术 (PFM) , 调频(FM)+完整版模式 |
●可根据特殊应用的要求或修改进行定制 |
产品咨询:方工 13412064047 fangfei@nannar.cn
应用行业领域:高科技产品的质量控制、太阳能电池、半导体和集成电路、表面工程材料科学、聚合物和化工产品、陶瓷和涂层、纳米级机械和电学性能、病理学和医学综合科学、生物技术研究。
高科技产品 的控制